1. data.tainan.gov.tw
  2. 臺南市事業廢棄物再利用者登記資料
(計算時間: 0.005秒, 共找到 1258 筆資料，顯示第 1101 到 1200 筆)
可用欄位參考
縣市別 申請序號 申報機構管編 申請機構 場(廠)地址 目的事業主管機關 公告再利用，清理計畫書核淮字號 個案再利用許可 通案再利用許可 試驗計畫再利用許可 檢核進度 檢核通過日期 檢核起始日期 檢核到期日期 再利用廢棄物代碼 再利用廢棄物名稱 廢棄物來源 再利用用途 最大再用利量 許可量(契約備查量) 主要產品種類 國家標準認證 符合管制規定之說明
台南市 13161 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/1/6 上午 08:39:50 2014/12/27 00:00 2015/9/14 00:00 D-1504 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 20
台南市 13161 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/1/6 上午 08:39:50 2014/12/27 00:00 2015/9/14 00:00 D-1504 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 20
台南市 13161 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/1/6 上午 08:39:50 2014/12/27 00:00 2015/9/14 00:00 D-1504 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 20
台南市 13161 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/1/6 上午 08:39:50 2014/12/27 00:00 2015/9/14 00:00 D-1504 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 20
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 R-1501 廢光阻剝離液 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） 光阻剝離液原料 1300 180258 無國家標準認證 無符合管制規定之說明
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 R-1501 廢光阻剝離液 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） 光阻剝離液原料 1300 180261 無國家標準認證 無符合管制規定之說明
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 R-1501 廢光阻剝離液 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） 光阻剝離液原料 1300 180273 無國家標準認證 無符合管制規定之說明
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 R-1501 廢光阻剝離液 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） 光阻剝離液原料 1300 180699 無國家標準認證 無符合管制規定之說明
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 R-1501 廢光阻剝離液 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） 光阻剝離液原料 1300 182499 無國家標準認證 無符合管制規定之說明
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 R-1501 廢光阻剝離液 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） 光阻剝離液原料 1300 191799 無國家標準認證 無符合管制規定之說明
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 R-1501 廢光阻剝離液 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） 光阻剝離液原料 1300 192999 無國家標準認證 無符合管制規定之說明
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 40
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 40
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 40
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 40
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 40
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 40
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台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 40
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 40
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台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 40
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 80
台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 80
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台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 80
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台南市 13495 R92A0748 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 經濟部, 科技部(國科會) D10003100001 10320414270 已檢核通過 2015/2/24 上午 11:24:34 2015/2/17 00:00 2015/9/14 00:00 C-0301 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) 半導體製造程序 工業級溶劑, 160 80
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