電子工程英中對照名詞等資訊。

英文名稱 中文名稱
56844659 Estimation of photon density nonuniformity 光子密度非均勻性估計
56844660 etch pit 蝕刻斑
56844661 etch pit density 蝕孔密度
56844662 Etched mirror lasers 蝕刻反射鏡雷射
56844663 Etching methods 蝕刻方法
56844664 Etching process 蝕刻過程
56844665 Ethnic Group 種族族群
56844666 ethylene glycol 乙二醇;乙烯
56844667 eutetic alloy 共晶合金
56844668 eutetic temperature 共晶溫度
56844669 evacuating 排氣
56844670 Evaluated Product Source 評估產出來源
56844671 Evaluation method 估計方法
56844672 evanescent mode 消失模;凋落模;衰逝模
56844673 Evanescent wave sensors 漸逝波感測器
56844674 Evaporation 蒸發
56844675 evaporation ion pump 蒸發離子泵
56844676 even parity 偶同位
56844677 even-line interlace 偶數間條
56844678 Event Causality Observations 事件因果觀察
56844679 Event Completion Date/Time 事件完成日期/時間
56844680 Event Date/Time 事件日期/時間
56844681 Event Description From Autopsy 驗屍事件描述
56844682 Event Description From Others 其他對事件之描述
56844683 Event Description From Patient 病患之事件描述
56844684 Event Description From Practitioner 醫師之事件描述
56844685 Event Ended Data/Time 事件結束日期/時間
56844686 Event Exacerbation Date/Time 事件惡化日期/時間
56844687 Event Expected 事件預期
56844688 Event Facility 事件設施
56844689 Event From Original Reporter 最初報告者事件
56844690 Event Identifier 事件識別
56844691 Event Identifiers Used 事件識別符使用
56844692 Event Improved Date/Time 事件改進日期/時間
56844693 Event Location Occurred Address 事件所在發生地址
56844694 Event Occurred 發生事件
56844695 Event Onset Date/Time 事件開始日期/時間
56844696 Event Outcome 事件結果
56844697 Event Qualification 事件鑑定
56844698 Event Reason 事件理由
56844699 Event Reason Code 事件理由代碼
56844700 Event Report Date 事件報告日期
56844701 Event Report Source 事件報告來源
56844702 Event Report Timing/Type 事件報告時序/型式
56844703 Event Reported to 事件報告目之
56844704 Event Serious 危急之事件
56844705 Event Symptom / Diagnosis Code 事件症狀/診斷碼
56844706 Event type 事件型式
56844707 Event Type Code 事件型式代碼
56844708 Events Scheduled This Time Point 事件排程時間點
總共 16149 筆,顯示第 5201 到第 5250 筆