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| column | value |
|---|---|
| tf_hs_e_reason | 本案貨品符合係專供製造半導體或平面顯示器物理氣相沉積（PVD）真空濺鍍機台用之零組件者，宜歸列貨品分類號列第8486.90.00.60-5號。否則，宜按第8543節其他電機及器具之零件，歸列貨品分類號列第8543.90.90.00-0號。 |
| TF_STANDARD_HS | 84869000605 |
| tno | 84869000 |
| sc | 60 |
| cd | 5 |
| TF_ENGLISH_COMMODITY | 微小型單靶電子監控型旋轉靶濺鍍整合器0.69公尺/ Good name:Tiny single rotary e-cathode for sputtering deposition 0.69 meter/ TC series/ 規格如附件 |
| TF_FACTOR_MATERIAL | Stainless |
| TF_FUNCTION | 在真空濺鍍機台支撐陰極靶材之載具，此載具可支撐及旋轉靶材，並傳輸電壓 |
| TF_ISSUE_DOCU_NO | 98CA0078 |
| TF_ISSUE_DATE | 20091217 |
| cnote | 製造半導體用之物理氣相沈積器之零件 |
| enote | Parts of physical deposition apparatus for semiconductor production |