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| 系統編號 | 102CCU00489081 |
| 作者 | 楊戩 |
| 論文名稱 | 直接奈米壓印結合反應式離子蝕刻在金薄膜/PMMA疊層上製作複合光柵 |
| 指導老師 | 敖仲寧 |
| 學位名稱 | 碩士 |
| 學校名稱 | 國立中正大學 |
| 系所名稱 | 機械工程學系暨研究所 |
| 畢業學年度 | 102 |
| 博碩士論文網址 | http://handle.ncl.edu.tw/11296/ndltd/32432746216306275540 |