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notes: 本資料集提供臺南市事業廢棄物再利用者登記資訊。 ; tags: ["回收","廢棄物","環保"] ; description: ["縣市別、申請序號、申報機構管編、申請機構、場(廠)地址、目的事業主管機關、公告再利用、清理計畫書核淮字號、個案再利用許可、通案再利用許可、試驗計畫再利用許...","md5: 7cb83d44288bd10a748777f8de5f68cf"] ; detail: http://data.tainan.gov.tw//dataset/disprecyclep
| 縣市別 | 申請序號 | 申報機構管編 | 申請機構 | 場(廠)地址 | 目的事業主管機關 | 公告再利用，清理計畫書核淮字號 | 個案再利用許可 | 通案再利用許可 | 試驗計畫再利用許可 | 檢核進度 | 檢核通過日期 | 檢核起始日期 | 檢核到期日期 | 再利用廢棄物代碼 | 再利用廢棄物名稱 | 廢棄物來源 | 再利用用途 | 最大再用利量 | 許可量(契約備查量) | 主要產品種類 | 國家標準認證 | 符合管制規定之說明 | |
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| 35496428 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496429 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496430 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496431 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496432 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496433 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496434 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496435 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496436 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496437 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496438 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496439 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496440 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496441 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496442 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496443 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496444 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496445 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496446 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496447 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496448 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496449 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496450 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496451 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496452 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496453 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496454 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496455 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496456 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496457 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496458 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496459 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496460 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496461 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496462 | 台南市 | 12789 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/7/2 上午 08:07:51 | 2014/6/30 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496463 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 500 | 180258 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496464 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 500 | 180261 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496465 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 500 | 180273 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496466 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 500 | 180699 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496467 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 500 | 182499 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496468 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 500 | 191799 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496469 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 500 | 192999 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496470 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 500 | 360007 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496471 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496472 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496473 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496474 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496475 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496476 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496477 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 |