本站大部份資料在 2016 年後就未更新，若資料內無明確標示資料時間，請預設該資料為過時資料並斟酌使用，謝謝
notes: 本資料集提供臺南市事業廢棄物再利用者登記資訊。 ; tags: ["回收","廢棄物","環保"] ; description: ["縣市別、申請序號、申報機構管編、申請機構、場(廠)地址、目的事業主管機關、公告再利用、清理計畫書核淮字號、個案再利用許可、通案再利用許可、試驗計畫再利用許...","md5: 7cb83d44288bd10a748777f8de5f68cf"] ; detail: http://data.tainan.gov.tw//dataset/disprecyclep
| 縣市別 | 申請序號 | 申報機構管編 | 申請機構 | 場(廠)地址 | 目的事業主管機關 | 公告再利用，清理計畫書核淮字號 | 個案再利用許可 | 通案再利用許可 | 試驗計畫再利用許可 | 檢核進度 | 檢核通過日期 | 檢核起始日期 | 檢核到期日期 | 再利用廢棄物代碼 | 再利用廢棄物名稱 | 廢棄物來源 | 再利用用途 | 最大再用利量 | 許可量(契約備查量) | 主要產品種類 | 國家標準認證 | 符合管制規定之說明 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 35496478 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496479 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496480 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496481 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496482 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496483 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 40 | ||||||
| 35496484 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496485 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496486 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496487 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496488 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496489 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496490 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496491 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496492 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496493 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496494 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496495 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496496 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | C-0301 | 廢液閃火點小於60℃(廢IPA廢液、廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 80 | ||||||
| 35496497 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496498 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496499 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496500 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496501 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496502 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496503 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496504 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496505 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496506 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496507 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496508 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496509 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496510 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496511 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496512 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496513 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496514 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496515 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496516 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496517 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496518 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496519 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496520 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496521 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496522 | 台南市 | 13035 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 10320414270 | 已檢核通過 | 2014/10/15 下午 03:48:30 | 2014/10/8 00:00 | 2015/9/14 00:00 | D-1504 | 非有害有機廢液或廢溶劑(廢NMP廢液) | 半導體製造程序 | 工業級溶劑, | 160 | 20 | ||||||
| 35496523 | 台南市 | 13161 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2015/1/6 上午 08:39:50 | 2014/12/27 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 1300 | 180258 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496524 | 台南市 | 13161 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2015/1/6 上午 08:39:50 | 2014/12/27 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 1300 | 180261 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496525 | 台南市 | 13161 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2015/1/6 上午 08:39:50 | 2014/12/27 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 1300 | 180273 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496526 | 台南市 | 13161 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2015/1/6 上午 08:39:50 | 2014/12/27 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 1300 | 180699 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 | ||||
| 35496527 | 台南市 | 13161 | R92A0748 | 台灣瑞環股份有限公司台南工廠 | (736)台南市柳營區大農里環園西路二段一九號 | 經濟部, 科技部(國科會) | D10003100001 | 已檢核通過 | 2015/1/6 上午 08:39:50 | 2014/12/27 00:00 | 2015/9/14 00:00 | R-1501 | 廢光阻剝離液 | 公告可直接再利用；電子零組件製造業在薄膜電晶體液晶顯示器製造之薄膜電晶體陣列(Array)製程，所產生之光阻剝離廢液（經濟部） | 光阻剝離液原料 | 1300 | 182499 | 無國家標準認證 | 無符合管制規定之說明 |